上海集積回路研究開発センター(ICRD)¶
上海集成电路研发中心
研究プラットフォーム|浦東新区|調査確認日 2026-11-04
AIおよび産業フォーカス:半導体・チップ、ハードウェアAI。
張江に位置する集積回路の公共研究開発・エンジニアリングプラットフォーム。微細加工プロセス開発、デバイス検証、IP性能評価を支援。ウェハ試作や試験受託には、技術事前評価と書面見積の取得が必要。
出典 S058. 上海集成电路研发中心.
ステータスと支援内容¶
機関情報を確認済み・現在の受付は要確認
本項目について、一律の現金交付、費用免除、または固定の株式取得比率は確認されていません。現行の書面条件を請求して確認してください。
連絡先と所在地¶
公式サイトを通じて担当部署と現在の申請窓口を確認する。本書にはメールアドレスを掲載していない。
地図上の位置は区またはキャンパスの代表地点(アンカー)を使用しており、確認された個別のオフィス位置ではありません。
申請・採択ワークフロー¶
編集部作成の申請チェックリスト。実際の申請手続きは現行の公式通知または契約書が優先されます。
- 試作品の概要と、必要な設備、工程、試験を説明する。
- 技術評価、施設見学、項目別の見積もりを依頼する。
- 利用条件、安全、試料と知的財産の扱い、試験範囲、検収条件を合意する。
- 施設利用の契約と、投資や公的助成の申請は別に進める。